tテスト

約30年に渡る半導体製造装置及び消耗部材の経験をもとに様々なお手伝いをさせていただきます。

特にCMP(Chemical Mechanical Planarization/polishing)工程に関しては、研磨装置、洗浄装置、スラリー、研磨パッド、洗浄ブラシ、コンディショニング・ディスク(ドレッサー）等の知見を有しております。